首先，硫酸鋇基底的粒度測定是適當?shù)模�添加分散劑是不適當?shù)�，原料是非常重要的�?span lang="EN-US">

　　其次，鋇的沉淀已經(jīng)很硬，即使在不適當?shù)匿^沉淀下，磨損也是完全不起作用的。拋光只是一種分散過程。涂層中的硫酸鋇通常很低，但其高速分散可能低于。10.微米

　　第三，從各方法的角度來看，如果硫酸鋇冷卻條件良好，即使電力供應量適當減少，也可以降低精度。達到標準通常需要一次以上的時間。至少80%的非熟練磨料也是精細的原料。部件的兼容性必須得到保證，因為公式不合理。

　　第四，通常沉淀的硫酸鋇不太成問題，但其方法可以證實該分散體并不薄弱，主要是因為鈣粉是由天然礦物S研磨的，例如，大多數(shù)產(chǎn)品中的許多制造工廠。同時，考慮到硫酸鋇的濕度和分散性，硫酸鋇可能受到過多的水的影響。